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產品詳情
簡單介紹：
INFICON Transpector? 單壓取樣 (SPS) 殘余氣體分析儀為目標高壓過程提供zui佳半導體晶圓和顯示屏面板保護。憑借適合單壓應用的zui敏感空氣泄漏和過程污染檢測，Transpector SPS 可zui大程度減少晶圓和面板報廢。它具有業內率先的檢測限值和測量速度，確保晶圓和面板產品的質量和數量。
詳情介紹：
TRANSPECTOR® SPS 殘余氣體分析儀
INFICON Transpector® 單壓取樣 (SPS) 殘余氣體分析儀為目標高壓過程提供zui佳半導體晶圓和顯示屏面板保護。憑借適合單壓應用的zui敏感空氣泄漏和過程污染檢測，Transpector SPS 可zui大程度減少晶圓和面板報廢。它具有業內率先的檢測限值和測量速度，確保晶圓和面板產品的質量和數量。Transpector SPS 提供zui可靠的過程監控，確保實現穩定的高壓過程，進而zui大程度提高過程能力和產量。該儀器融合了簡單且高成本效益的入口系統與經實踐驗證的離子源和泵組，以提供低風險、高回報的氣體分析解決方案。Transpector SPS 是一種經過驗證的解決方案，適用于真空電弧重熔 (VAR) 等冶金和熱處理應用，且是一般真空和工業應用的理想之選。Transpector SPS 可根據具體應用和預算進行配置和定制。 針對從 1E-4 Torr 到大氣的取樣過程壓強，均可選用標準孔板、劈刀和旁路線組合。耐腐蝕入口、離子源和泵組的設計可確保在蝕刻、CVD、ALD 和其他腐蝕性氣體過程中的耐受性。
好處
- 得益于單壓取樣入口，zui大程度降低晶圓和面板保護的總擁有成本；是擴散、外延和 RTP 等高壓 過程的理想之選
- 提供zui低漏氣量和污染監測，確保恒定高壓過程
- 通過 強大數據采集與同步實現無縫工廠集成和可靠阻斷
- 通過定制 配方優化增強獨特生產能力
- 通過即時現場專家響應保護關鍵過程需求
典型應用
- PVD 過程
- 擴散和外延過程
- 蝕刻過程包括：金屬、電介質、硅刻蝕, HDP-etch
- CVD 過程包括：高 k 電介質、HDP-CVD、LP-CVD、SA-CVD、CVD 低 k、PE-CVD
